




氦質(zhì)譜檢漏儀對示漏氣體的要求及選擇
今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀對示漏氣體有哪些要求,希望對您有所幫助!
(1)無害,不能對人體或環(huán)境造成傷害;
(2)質(zhì)量輕,惰性氣體,穿透能力強,能穿透微小細縫;
(3)化學性質(zhì)穩(wěn)定,不會引起化學反應和易1燃易1爆;
(4)在空氣環(huán)境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體,滿足檢漏靈敏度方面的要求,減少本底干擾檢測的準確性。
氦質(zhì)譜檢漏儀的應用拓展三
(1)電子行業(yè)
微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。
(2)真空行業(yè),儀器、儀表行業(yè)
管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機、薄膜真空計。
(3)核工業(yè)
鈾分離裝置、存儲裝置、核發(fā)電裝置。
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氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標準
氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測量原理,實現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測量。當被檢件密封面上存在漏孔時,示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出,泄漏出來的氣體進入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。在獲得氦氣信號值的基礎上,通過標準漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。其基本工作原理是采集被檢件中的氣體樣品并將其電離,根據(jù)不同種類氣體離子質(zhì)荷比不同的特點,利用磁偏轉(zhuǎn)分離原理將其區(qū)分開來。
根據(jù)檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測原理、優(yōu)缺點及檢測的標準。
真空法氦質(zhì)譜檢漏
采用真空法檢漏時,需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時,氦氣就會通過漏孔進入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實現(xiàn)漏孔的準確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來,在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。光無源器件對密封性的要求極高,如果存在泄漏會影響其使用性能和精度,光通信行業(yè)的漏率標準是小于5×10-8mbar。
氦質(zhì)譜檢漏儀的結(jié)構(gòu)和工作原理
氦質(zhì)譜檢漏儀是180°磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計,其基本原理是根據(jù)離子在磁場中運動時,不同質(zhì)荷比的離子具有不同的偏轉(zhuǎn)半徑來實現(xiàn)不同種類離子的分離。檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)及電氣控制部分組成。檢漏工作時先打開抽空閥前級泵對檢漏接口抽真空,當真空度P1 優(yōu)于200 Pa 時,打開入口閥1、2,關閉抽空閥,氦氣將逆著分子泵的抽氣方向進入質(zhì)譜室中被檢測出來,此時檢漏儀的較小可檢漏率為10- 10 Pa·m3/s。前級泵繼續(xù)對檢漏接口抽真空,當P1降至20 Pa 時,入口閥2 關閉,入口閥3 打開,分子泵的高抽速用于抽空試件,檢漏儀的反應時間縮短,此時檢漏儀的較小可檢漏率為10- 12 Pa·m3/s。正壓法的優(yōu)點是不需要輔助的真空系統(tǒng),可以準確定位,實現(xiàn)任何工作壓力下的檢測。
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